Artigo Revisado por pares

Migration effect on semiconductor surface for narrow-stripe selective MOVPE

2000; Springer Science+Business Media; Volume: 29; Issue: 1 Linguagem: Inglês

10.1007/s11664-000-0091-7

ISSN

1543-186X

Autores

Y Sakata, K. Komatsu,

Tópico(s)

Advancements in Photolithography Techniques

Referência(s)
Altmetric
PlumX