CONSTRUÇÃO DE UM SISTEMA DE PULVERIZAÇÃO CATÓDICA DC DE BAIXO CUSTO PARA DEPOSIÇÃO DE FILMES METÁLICOS
2008; Volume: 25; Issue: 4 Linguagem: Português
10.17563/rbav.v25i4.44
ISSN1983-4047
AutoresEvanette Costa Moura de Lima, C. A. Guarany, E. B. Araújo,
Tópico(s)Electrohydrodynamics and Fluid Dynamics
ResumoEste trabalho reporta a montagem de um sistema de pulverizacao catodica DC, de baixo custo e facil operacao, para a deposicao de eletrodos metalicos e o recobrimento de superficies. O projeto permite a utilizacao de metais como Au, Ag, Pt, Cu, entre outros. Filmes de cobre (Cu) e prata (Ag) foram depositados usando o sistema projetado. Os resultados avaliaram a espessura e a resistencia eletrica dos filmes em funcao do tempo de deposicao.
Referência(s)