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ESTUDO DE DEPOSIÇÃO DE FILMES FINOS EM PLASMAS DE AR/AR-H2 EM REGIÕES DE PÓS-DESCARGA DE CATODO OCO

2015; Postgraduate Program in Tourism of the Federal University of Rio Grande do Norte; Linguagem: Português

10.18816/r-bits.v5i2.7253

2236-1103

Bruno Felipe Costa da Silva, Edson José da Costa Santos, Edalmy Oliveira de Almeida, Paulo Victor de Azevedo Guerra, Hélio Roberto Hékis, Karilany Dantas Coutinho, Clodomiro Alves, Custódio Leopoldino de Brito Guerra Neto,

Laser-induced spectroscopy and plasma

O Plasma DC de catodo oco vem sendo utilizado para a deposição de filmes finos através de sputtering com liberação de átomos neutros do catodo. O Plasma DC de Ar-H2 de catodo oco usado atualmente na indústria tem demonstrado ser mais eficiente na limpeza de superfícies e deposição de filmes finos quando comparado ao plasma de argônio. Quando desejamos evitar os efeitos do bombardeamento iônico da descarga no substrato utiliza-se a região de pós-descarga. Geraram-se descargas por plasma de argônio e hidrogênio no catodo oco para deposição de filmes finos de titânio em substrato de vidro. A espectroscopia de emissão ótica foi empregada para o diagnostico na pós-descarga e os filmes formados foram analisados através da técnica de perfilometria mecânica. Observaram-se variações para a taxa de deposição do titânio sobre o substrato de vidro para diferentes parâmetros do processo, tempo de deposição, distancia da descarga, e gases de trabalho. Verificou-se um aumento da intensidade relativa das espécies de argônio com a introdução de gás hidrogênio.