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CARACTERIZAÇÃO DE FILMES FINOS FORMADOS NA SUPERFÍCIE DE FERRO NITRETADO À PLASMA

2008; Volume: 20; Issue: 1 Linguagem: Português

10.17563/rbav.v20i1.191

1983-4047

L. C. Gontijo, R. Machado, E. J. Miola, Luíz Carlos Casteletti, P.A.P. Nascente,

Diamond and Carbon-based Materials Research

A nitretracao por plasma e utilizada para melhorar as propriedades tribologicas e mecânicas dos materiais, especialmente em ligas a base de ferro. Neste trabalho, a tecnica de plasma pulsado foi usada para nitretar ferro puro e investigar os efeitos das condicoes de resfriamento sobre as caracteristicas dos filmes formados. Dois grupos de amostras foram nitretados em uma mistura de gas de 80 % vol. H 2 e 20 % vol. N 2 , a uma pressao de 400 Pa, frequencia de 9 kHz, temperatura de 580°C, por um periodo de 90 minutos. O primeiro grupo foi resfriado sob vacuo dentro da câmara, enquanto o outro foi resfriado em ar. Ambos os grupos foram caracterizados por microscopia otica (OM), microscopia eletronica de varredura (SEM), difracao de raios X (XRD), espectroscopia de fotoeletrons excitados por raios X (XPS) e microdureza Vickers. Foram observadas, nas camadas, diferentes composicoes e morfologias, indicando a importância da taxa de resfriamento na formacao dos filmes finos. Nas amostras resfriadas sob vacuo, dentro da câmara, foi detectada a formacao de uma fina camada de ?-Fe 2-3 N acima de uma camada de ?’-Fe 4 N. Alem dessas duas camadas, um filme de oxido (Fe 2 O 3 and Fe 3 O 4 ) e uma camada de transformacao foram observados nas amostras resfriadas ao ar.