Artigo
Revisado por pares
Plasma-Immersion Ion Implantation
1996; Springer Nature; Volume: 21; Issue: 8 Linguagem: Inglês
10.1557/s0883769400035727
ISSN1938-1425
AutoresJ. V. Mantese, I.G. Brown, N.W. Cheung, George Collins,
Tópico(s)Semiconductor materials and devices
Referência(s)