Produção Nacional
Revisado por pares
Crescimento e qualidade de mudas de<i> Pinus taeda </i>L. submetidas à poda química de raízes.
2008; UNIVERSIDADE FEDERAL DE SANTA MARIA; Volume: 18; Issue: 4 Linguagem: Português
10.5902/19805098427
ISSN1980-5098
AutoresVera Lúcia Sabongi De Rossi, Cassandro Vidal Talamini do Amarante, Frederico Dimas Fleig,
Tópico(s)Seedling growth and survival studies
ResumoO presente trabalho teve como objetivo avaliar os efeitos da poda química de raízes com sulfato de cobre, oxicloreto de cobre e ethefon (ácido 2-cloroetilfosfônico) sobre o crescimento e qualidade de mudas de Pinus taeda L. produzidas em tubetes. Os tratamentos à base de sulfato de cobre ou oxicloreto de cobre foram feitos nos tubetes (antes da sua utilização para preenchimento com substrato e semeadura), por meio da sua imersão em uma mistura de partes iguais de água e tinta látex comum, contendo 0, 12, 24, 36 e 48g de cobre L-1 de solução (tinta + água). O ethefon foi aplicado via aérea em mudas com 10-15cm de altura nas concentrações de 0, 50, 75, 100 e 125 mg (i.a.) L-1. Foi utilizado o delineamento em blocos ao acaso com cinco repetições. Considerando as fontes de cobre testadas, apenas o sulfato de cobre ocasionou redução significativa na massa seca total do sistema radicular, pela inibição do desenvolvimento de raízes secundárias, bem como no diâmetro do colo e na altura e massa secada parte aérea, com o aumento da dose aplicada. O incremento nas doses de sulfato de cobre ocasionou aumento maior na concentração de cobre presente no substrato em relação ao oxicloreto de cobre. O incremento nas doses de oxicloreto de cobre não causou redução na massa seca total do sistema radicular, mas promoveu aumento no número de raízes secundárias, concentradas especialmente nas porções mediana e superior do sistema radicular. O sulfato de cobre reduziu a emissão de raízes laterais, o mesmo fato não ocorrendo com o oxicloreto de cobre. Dessa forma, o incremento nas doses de oxicloreto de cobre parece apresentar efeito positivo em relação ao sulfato de cobre, já que um sistema radicular com maior número de raízes secundárias curtas é desejável visando estabelecimento das mudas a campo. O incremento nas doses de ethefon pulverizado na parte aérea das mudas ocasionou aumento significativo no acúmulo de massa seca de raiz primária e no número de raízes secundárias presentes nas porções mediana (efeito linear) e inferior (efeito quadrático) do sistema radicular. Não houve efeito de dose do ethefon sobre os demais atributos de crescimento analisados.
Referência(s)