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Cálculo da taxa de ionização por campo de um átomo próximo a uma superfície metálica: aplicação ao microscópio iônico de campo

2012; SOCIEDADE BRASILEIRA DE FÍSICA; Volume: 34; Issue: 1 Linguagem: Português

10.1590/s1806-11172012000100004

1806-9126

Ariel Almeida Abreu Silva, A. V. Andrade-Neto,

Surface and Thin Film Phenomena

Neste trabalho calculamos a taxa de ionização (probabilidade de ionização por unidade de tempo) para um átomo póximo a uma superficie metálica submetido a um campo elétrico uniforme. A probabilidade de penetração da barreira é calculada usando a aproximação WKB. Utilizando-se um modelo simples para a energia potencial do elétron externo do átomo, mas que contém as características física principais do problema, obtem-se uma expressão analítica para a taxa de ionização em função da distância átomo-superfície. Apresenta-se também de forma introdutória os princípios básicos de funcionamento do microscópio iônico de campo.