Cobalt nitride films produced by reactive pulsed laser deposition
2006; Mexican Society of Physics; Volume: 52; Issue: 5 Linguagem: Espanhol
ISSN
2683-2224
AutoresW. de la Cruz, O. Contreras, G. Soto, E. Peréz‐Tijerina,
Tópico(s)ZnO doping and properties
ResumoLos nitruros de metales magneticos han tomado gran importancia debido a sus potenciales aplicaciones tecnologicas. En este trabajo se han depositado capas delgadas de Nitruro de Cobalto usando la tecnica de ablacion laser pulsado reactivo en ambiente de nitrogeno. Se han usado sustratos de silicio a temperatura ambiente. Las capas resultantes se caracterizaron in situ por espectroscopias Auger, de foto-emision de rayos X y de perdida de energia. El enlace quimico y la estequiometria estan fuertemente correlacionados, y ambos son controlados simultaneamente por la presion durante el deposito. Concluimos que este metodo de sintesis permite tener un control muy fino de las propiedades de capas delgadas de Nitruro de Cobalto.
Referência(s)