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Artigo Acesso aberto Produção Nacional Revisado por pares
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Superfícies fotocatalíticas de titânia em substratos cerâmicos. Parte II: substratos, processos de deposição e tratamento térmico

2014; Associação Brasileira de Cerâmica; Volume: 60; Issue: 353 Linguagem: Português

10.1590/s0366-69132014000100002

ISSN

1678-4553

Autores

Jucilene Feltrin, Morgana Nuernberg Sartor, Agenor De Noni, Adriano Michael Bernardin, Dachamir Hotza, J.A. Labrincha,

Tópico(s)

Copper-based nanomaterials and applications

Resumo

Este trabalho corresponde à segunda parte da revisão das superfícies fotocatalíticas de titânia em substratos cerâmicos. Nesta parte, são descritos os principais fatores que influenciam na obtenção da fase anatase como: substrato, processos de deposição e tratamento térmico. Nos substratos que apresentam superfícies ásperas há uma maior eficiência fotocatalítica devido a sua maior área de contato. Os processos de deposição mais comumente utilizados em superfícies cerâmicas são: magnetron sputtering, dip coating, spin coating, serigrafia plana, pulverização, incavografia e impressão digital. Com relação ao tratamento térmico do dióxido de titânio, em todas as temperaturas e pressões a fase rutilo é a mais estável. A fase anatase é metaestável atingindo a estabilidade apenas em temperaturas baixas. A transformação de fase anatase para rutilo é gradual não apresentando uma temperatura definida.

Referência(s)