Voltar
Artigo Revisado por pares
BIBTEX RIS

Glassy mAs2S3·nAs2Se3 photoresist films for interference laser lithography

2004; Elsevier BV; Volume: 26; Issue: 3 Linguagem: Inglês

10.1016/j.optmat.2003.12.013

ISSN

1873-1252

Autores

A. Arsh, M. Klebanov, V. Lyubin, Lev Shapiro, Alexander Feigel, M. Veinger, B. Sfez,

Tópico(s)

Nonlinear Optical Materials Studies

Referência(s)
Ver no editor
Optical Materials
Altmetric
PlumX