KINETICS OF THE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF SILICON NITRIDE-FROM Si(CH 3 ) 4 / NH 3 /H 2 GAS MIXTURES
1989; EDP Sciences; Volume: 50; Issue: C5 Linguagem: Francês
10.1051/jphyscol
ISSN2777-3418
AutoresNicolas Roels, T. LECOINTE, René Guinebretière, J. Desmaison,
Tópico(s)Advanced ceramic materials synthesis
ResumoR~sum6 -L'etude de la cinbtique de depat chimique en phase vapeur de Si,N4 sur substrat graphite par pyrolyse de melanges tbtramethylsilane-ammoniac-hydroghe est ccnduite dans un four B parois chaudes sous pression reduite.Les conditions experimentales permettant un contrdle de la vitesse de depat par la reaction de surface sont definies.La structure et la composition des dBp8ts correspondants sont egalement precisees.
Referência(s)