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Artigo Revisado por pares
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Band alignment between (100)Si and Hf-based complex metal oxides

2005; Elsevier BV; Volume: 80; Linguagem: Inglês

10.1016/j.mee.2005.04.050

ISSN

1873-5568

Autores

V. V. Afanas’ev, A. Stesmans, Chao Zhao, Matty Caymax, Z. M. Rittersma, Jan Willem Maes,

Tópico(s)

Electronic and Structural Properties of Oxides

Referência(s)
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Microelectronic Engineering
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