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Generation and Recombination Images of Dislocations in Si by Scanning Microscopy

1982; Wiley; Volume: 73; Issue: 2 Linguagem: Inglês

10.1002/pssa.2210730241

1521-396X

A. Castaldini, A. Cavallini, P. Gondi, E. Bonetti,

Semiconductor materials and interfaces

In high purity Si generation images of dislocations, appearing as white lines, may be obtained in scanning microscopy by using an IR beam with suitable wavelength, with excitations involving prevalently the dislocation energy levels. Different contrasts are observed with broad area contacts or with point contacts localized in the dislocation etch-pit centre. Dans Silicium de haute pureté on a obtenu des images de dislocations comme des lignes blanches par le moyen d'un microscope à balayage. On a utilisé un faisceau IR de convenable longueur d'onde, par excitation concernant les niveaux des dislocations. On a remarqué des différents con-trastes avec larges contacts ou avec contacts ponctuels placés dans le centre du “etch-pit” des dislocations.