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Lichtabbau von polymethacrylverbindungen in wäßriger lösung

1961; Wiley; Volume: 44; Issue: 1 Linguagem: Alemão

10.1002/macp.1961.020440110

0025-116X

Von Th. Völker,

Photopolymerization techniques and applications

Abstract Wasserlösliche Polymere der Methacrylsäure zeigen die eigentümliche Erscheinung, daß sie in sauren bis schwach‐alkalischen wäßrigen Lösungen bei Bestrahlung mit Tageslicht einen Abbau erleiden. Die Abbaugeschwindigkeit wird erhöht durch Bestrahlung mit kurzwelligerem Licht, durch Erhöhung der Polymerisatkonzentration in den wäßrigen Losungen und schließlich durch Zusatz von Elektrolyten, besonders von mehrwertigen Elektrolyten. Wasserlösliche Polyampholyte auf Methacrylatbasis bauen in der Nähe des isoelektrischen Punktes am stärksten ab. Demgegenüber sind die Polykationen dieser Reihe in stark saurem Milieu gegenüber Tageslicht resistent und bauen bei Erhöhung der pH‐Werte der Lösungen zunehmend stärker ab. Starke Polyelektrolyte auf Methacrylbasis, zum Beispiel quartä;re Ammoniumverbindungen, die sowohl als freie Basen als auch in Form der Salze stark dissoziieren, weisen pH‐unabängige, konstante Viskositätswerte auf und bauen bei Tageslichtbestrahlung nicht ab. Man kann also feststellen, daß nur die in wäßriger Lösung in gekäauelter Form vorliegenden Polymethacrylverbindungen durch Tageslicht abgebaut werden. Es wird ferner qualitativ ein Zusammenhang zwischen der abbauwirksamen Wellenlänge des Lichtes und dem Knauelungsgrad der Polymeren beobachtet. Der Abbau mit Tageslicht wird als eine Homolyse des Polymeren gedeutet und eine zusätzliche Herabsetzung der Bindungskrafte der CC‐Bindungen in den sperrig aufgebauten Methacrylketten durch Knäuelung angenommen.