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Die Erzeugung dünner Schichten. Das PECVD‐Verfahren: Gasphasenabscheidung in einem Plasma

1991; Wiley; Volume: 25; Issue: 3 Linguagem: Alemão

10.1002/ciuz.19910250306

1521-3781

E. Unger,

Surface Modification and Superhydrophobicity

Abstract Dünne Schichten für Komponenten der modernen Mikroelektronik entstehen oft nach einem Verfahren, das als „Plasma enhanced chemical vapor deposition”︁ (abgekürzt: PECVD) bezeichnet wird. Amorphe Solarzellen, Mikroprozessoren und Informationsspeicher sind ohne diese Methode, die physikalische Bearbeitungstechniken und chemische Reaktionsführung kombiniert, nicht vorstellbar.