Artigo Revisado por pares

Resistance of a 4-META–Containing, Methacrylate-based Sealer to Dislocation in Root Canals

2008; Elsevier BV; Volume: 34; Issue: 7 Linguagem: Inglês

10.1016/j.joen.2008.03.028

ISSN

1878-3554

Autores

Mark Lawson, Bethany A. Loushine, Sui Mai, Robert S. Weller, D.H. Pashley, Franklin R. Tay, Robert J. Loushine,

Tópico(s)

Dental Radiography and Imaging

Referência(s)
Altmetric
PlumX