Artigo
Revisado por pares
In situ stress measurements during MOCVD growth of AlGaN on SiC
2004; Elsevier BV; Volume: 272; Issue: 1-4 Linguagem: Inglês
10.1016/j.jcrysgro.2004.08.033
ISSN1873-5002
AutoresJeremy D. Acord, Srinivasan Raghavan, David W. Snyder, Joan M. Redwing,
Tópico(s)Metal and Thin Film Mechanics
Referência(s)