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Artigo Revisado por pares
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Non-destructive study of the ion-implantation-affected zone (the long-range effect) in titanium nitride

1994; Elsevier BV; Volume: 66; Issue: 1-3 Linguagem: Inglês

10.1016/0257-8972(94)90034-5

ISSN

1879-3347

Autores

A.J. Perry, James R. Treglio, J.P. Schaffer, J. Brunner, V. Valvoda, David Rafaja,

Tópico(s)

Semiconductor materials and devices

Referência(s)
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Surface and Coatings Technology
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