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Artigo Revisado por pares
BIBTEX RIS

Plasma etching: principles, mechanisms, application to micro- and nano-technologies

2000; Elsevier BV; Volume: 164; Issue: 1-4 Linguagem: Inglês

10.1016/s0169-4332(00)00328-7

ISSN

1873-5584

Autores

Christophe Cardinaud, Marie-Claude Peignon, Pierre‐Yves Tessier,

Tópico(s)

Semiconductor materials and devices

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Applied Surface Science
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