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Über den thermischen Zerfall von ClONO 2 in Gegenwart von NO, ClNO und N 2

1978; Volume: 82; Issue: 2 Linguagem: Alemão

10.1002/bbpc.197800013

0005-9021

H.‐D. Knauth,

Molten salt chemistry and electrochemical processes

Abstract Um zu einer Aussage über die Kinetik des Schrittes zu gelangen, wurde der thermische Zerfall von ClONO 2 in Gegenwart von NO und ClNO mit N 2 als Fremdgaszusatz bei Drücken zwischen 20 und 375 Torr und Temperaturen zwischen 333 K und 363 K IR‐photometrisch untersucht. NO wandelt die OCl‐Radikale schnell in Cl‐Atome um, welche ihrerseits von ClNO unter Rückbildung von NO abgefangen werden. Ein Vergleich von gemessenen mit über Modellrechnungen gewonnenen Konzentrations‐Zeit‐Kurven, für die aus Messungen an den Systemen NO/ClONO 2 und ClNO/ClONO 2 erhaltene k ‐Werte verwendet wurden, zeigen, daß k erst bei p /Torr = 375 signifikant (ca. 20%) vom Niederdruckbereich abweicht. Für den Niederdruckbereich des Schrittes (1) mit N 2 als Stoßpartner wurden die Arrheniusparameter lg( A 10 /cm 3 mol −1 s −1 ) = 18,9 ± 0,1 und E 10 /kJ mol −1 = 99,6 ± 0,8 ermittelt.