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Artigo Revisado por pares
BIBTEX RIS

High performance resist for EUV lithography

2004; Elsevier BV; Volume: 77; Issue: 1 Linguagem: Inglês

10.1016/j.mee.2004.08.003

ISSN

1873-5568

Autores

Kenneth E. Gonsalves, Muthiah Thiyagarajan, Jae‐Hak Choi, Paul Zimmerman, F. Cerrina, Paul F. Nealey, V. Golovkina, John Wallace, Nikola Batina,

Tópico(s)

Electron and X-Ray Spectroscopy Techniques

Referência(s)
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Microelectronic Engineering
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