Artigo
Revisado por pares
The spatial resolution limit of electron lithography
1983; Elsevier BV; Volume: 1; Issue: 2 Linguagem: Inglês
10.1016/0167-9317(83)90024-2
ISSN1873-5568
Autores Tópico(s)Copper Interconnects and Reliability
Referência(s)