Characterization of deep centers in bulk n-type 4H–SiC
2001; Elsevier BV; Volume: 308-310; Linguagem: Inglês
10.1016/s0921-4526(01)00876-6
ISSN1873-2135
AutoresZ-Q. Fang, D. C. Look, A. Saxler, W. C. Mitchel,
Tópico(s)Semiconductor materials and interfaces
Referência(s)