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Artigo Revisado por pares
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Influence of atomic layer deposition parameters on the phase content of Ta2O5 films

2000; Elsevier BV; Volume: 212; Issue: 3-4 Linguagem: Inglês

10.1016/s0022-0248(00)00331-6

ISSN

1873-5002

Autores

Kaupo Kukli, Mikko Ritala, Raija Matero, Markku Leskelä,

Tópico(s)

Catalytic Processes in Materials Science

Referência(s)
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Journal of Crystal Growth
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