Ab initio calculation of geometries and hfs constants of CH3, SiH3 and GeH3 radicals
1982; Elsevier BV; Volume: 67; Issue: 1 Linguagem: Inglês
10.1016/0301-0104(82)88057-9
ISSN1873-4421
AutoresK. Ohta, Hiroshi Nakatsuji, Ikuko Maeda, T. Yonezawa,
Tópico(s)Spectroscopy and Quantum Chemical Studies
Referência(s)