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Artigo Revisado por pares
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Properties of SiO2 thin films prepared by anodic oxidation under UV illumination and rapid photothermal processing

2004; Elsevier BV; Volume: 49; Issue: 25 Linguagem: Inglês

10.1016/j.electacta.2004.04.034

ISSN

1873-3859

Autores

S. Shishiyanu, Oleg Lupan, T. Shishiyanu, V. P. Sontea, Serghei Railean,

Tópico(s)

Electron and X-Ray Spectroscopy Techniques

Referência(s)
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Electrochimica Acta
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