
SÍNTESE E CARACTERIZAÇÃO DE FILMES FINOS DE ZrN DEPOSITADOS EM DIFERENTES TEMPERATURAS
2011; Volume: 8; Issue: 3 Linguagem: Português
10.4322/tmm.2011.027
ISSN1982-7709
AutoresDaiane Roman, Juliane Carla Bernardi, Cintia Lugnani Gomes de Amorim, Carlos A. Figueroa, I. J. R. Baumvol, Rodrigo Leonardo de Oliveira Basso,
Tópico(s)Diamond and Carbon-based Materials Research
ResumoFilmes finos nanométricos de nitreto de zircônio (ZrN) foram depositados sobre diferentes substratos, objetivando-se estudar a microestrutura cristalina da superfície e investigar o comportamento eletroquímico para obter a melhor composição que minimize reações de corrosão.Os revestimentos foram produzidos por deposição física de vapor (PVD).É estudada a influência da pressão parcial do gás nitrogênio, do tempo e da temperatura de deposição, nas propriedades da superfície.Os filmes de ZrN foram caracterizados pelas técnicas de espectrometria por espalhamento Rutherford (RBS), espectroscopia por fotoelétrons de raios X (XPS), difração de raios X (XRD) e ensaios de corrosão.Como esperado, as propriedades dos filmes finos de ZrN e as microestruturas variam com os parâmetros de deposição.Quanto maior a temperatura usada na deposição dos filmes maior a resistência contra a corrosão.Quando depositado sobre o titânio, os ensaios de corrosão mostram que os revestimentos de ZrN depositados por PVD pode efetivamente melhorar a resistência contra a corrosão.
Referência(s)