Gettering by ion implantation
1983; Elsevier BV; Volume: 209-210; Linguagem: Inglês
10.1016/0167-5087(83)90819-0
ISSN1872-9606
Autores Tópico(s)Semiconductor materials and devices
Referência(s)1983; Elsevier BV; Volume: 209-210; Linguagem: Inglês
10.1016/0167-5087(83)90819-0
ISSN1872-9606
Autores Tópico(s)Semiconductor materials and devices
Referência(s)