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A potential pH diagram for the system Cu-NH3-Cl−-H2O

1969; Elsevier BV; Volume: 9; Issue: 1 Linguagem: Inglês

10.1016/s0010-938x(69)80065-x

1879-0496

R. Bartoníček, M. Lukašovská,

Bauxite Residue and Utilization

The potential pH diagram for the system Cu-NH3-Cl−-H2O has been calculated. Owing to the fact that there was a change of the NH3 and NH4+ activities with change in pH, the diagram provides for the existence of Cu-oxides both in alkaline and acidic regions, but their stability domains are interrupted by stability domains of ammonium complexes. In this respect they differ from the diagrams calculated by other authors for the system Cu-NH3-H2O. The possibility of the existence of ammonium complexes between the stability domain of Cu-oxides is very important for an elucidation of corrosion behaviour of brasses in aqueous solutions containing ammonia. In the acidic region the CuCl and CuCl2 respectively prove more stable than the copper ammonium complexes. On a établi le diagramme tension-pH du système Cu-NH3-Cl-H2O. Etant donné que les activités de NH3 et de NH4+ changent avec le pH, le diagramme prévoit l'existence d'oxydes de cuivre en milieur alcalin et en milieu acide, mais leurs domaines de stabilité sont interrompus par les domaines de stabilité de complexes amminés. A ce propos, le diagramme de système Cu-NH3-H2O dière de ceux calculés par d'autres auteurs. La possibilité d'existence de complexes amminés entre les domaines de stabilité des oxydes de cuivre est très importante pour élucider, au point de vue corrosion, le comportement des laitons en solutions aqueuses ammoniacales. En milieu acide, CuCl et CuCl2 se révèlent plus stables que les complexes cupro-amminés. Das Potential-pH-Diagramm des Systems Cu-NH3-Cl-H2O wurde berechnet. Aufgrund der Veränderlichkeit der Aktivitäten von NH3 und NH4+ bei wechselndem pH-Wert gibt das Diagramm die Existensbereiche der Kupferoxide sowohl in alkalischer als auch in saurer Lösung an, die von den Stabilitätsbereichen von Ammoniumkomplexen unterbrochen werdern. In dieser Hinsicht unterscheidet sich das vorliegende Diagramm von früheren Berechnungen für das System Cu-NH3-H2O durch andere Autoren. Die Möglichkeit des Auftretens von Ammoniumkomplexen zwischen den Stabilitätsbereichen der Kupferoxide ist von groβer Bedeutung für das Verständnis des Korrosionsverhaltens von Messing in wässrigen ammonialischen Lösungen. Im sauren Bereich sind CuCl und CuCl2 offensichtlich stabiler als die Kupfer-Ammonium-Komplexe.