Chemical etching of p-type Si(lOO) by K2Cr2O7
1987; Springer Nature; Volume: 42; Issue: 1 Linguagem: Inglês
10.1007/bf00618159
ISSN0721-7250
AutoresM. Kunst, Wolfram Jaegermann, D. Schmei�er,
Tópico(s)Semiconductor materials and interfaces
Referência(s)