Chemical etching of p-type Si(lOO) by K2Cr2O7

1987; Springer Nature; Volume: 42; Issue: 1 Linguagem: Inglês

10.1007/bf00618159

ISSN

0721-7250

Autores

M. Kunst, Wolfram Jaegermann, D. Schmei�er,

Tópico(s)

Semiconductor materials and interfaces

Referência(s)