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Artigo Revisado por pares
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Microstructure Influence on the First Stage of the Oxidation Process in Polycrystalline SiGe Layers

1996; Scientific.net; Volume: 51-52; Linguagem: Inglês

10.4028/www.scientific.net/ssp.51-52.199

ISSN

1662-9787

Autores

Juan Carlos Ferrer, J.J. Pedroviejo, B. Garrido, J.R. Morante, J. Calderer,

Tópico(s)

Thin-Film Transistor Technologies

Referência(s)