Stress-sensitive properties of silicon-gate MOS devices
1981; Elsevier BV; Volume: 24; Issue: 3 Linguagem: Inglês
10.1016/0038-1101(81)90085-x
ISSN1879-2405
Autores Tópico(s)Nanowire Synthesis and Applications
Referência(s)1981; Elsevier BV; Volume: 24; Issue: 3 Linguagem: Inglês
10.1016/0038-1101(81)90085-x
ISSN1879-2405
Autores Tópico(s)Nanowire Synthesis and Applications
Referência(s)