Artigo Revisado por pares

Inductively coupled plasma etching for large format HgCdTe focal plane array fabrication

2005; Springer Science+Business Media; Volume: 34; Issue: 6 Linguagem: Inglês

10.1007/s11664-005-0014-8

ISSN

1543-186X

Autores

E. P. Smith, G. M. Venzor, Michael Newton, M. V. Liguori, J. K. Gleason, R. E. Bornfreund, S. M. Johnson, J. D. Benson, A. J. Stoltz, J. B. Varesi, J. H. Dinan, W. A. Radford,

Tópico(s)

Electronic and Structural Properties of Oxides

Referência(s)
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