Inductively coupled plasma etching for large format HgCdTe focal plane array fabrication
2005; Springer Science+Business Media; Volume: 34; Issue: 6 Linguagem: Inglês
10.1007/s11664-005-0014-8
ISSN1543-186X
AutoresE. P. Smith, G. M. Venzor, Michael Newton, M. V. Liguori, J. K. Gleason, R. E. Bornfreund, S. M. Johnson, J. D. Benson, A. J. Stoltz, J. B. Varesi, J. H. Dinan, W. A. Radford,
Tópico(s)Electronic and Structural Properties of Oxides
Referência(s)