
Preparation and characterization of well-ordered MoOx films on Cu3Au(100)–oxygen substrate (CAOS)
2008; Elsevier BV; Volume: 133-135; Linguagem: Inglês
10.1016/j.cattod.2007.11.046
ISSN1873-4308
AutoresFabiana Magalhães Teixeira Mendes, Daniel E. Weibel, Ralf‐Peter Blum, Jürgen Middeke, Michael Hafemeister, H. Niehus, Carlos A. Achete,
Tópico(s)Semiconductor materials and devices
Referência(s)