Produção Nacional
Hole Injection in Teflon FEP Films
1990; Wiley; Volume: 119; Issue: 2 Linguagem: Inglês
10.1002/pssa.2211190221
ISSN1521-396X
AutoresRamón Moreno, Celso Xavier Cardoso, Makoto Yoshida,
Tópico(s)Semiconductor materials and devices
ResumoThe effect of ionic bombardment (glow discharge) on the surface of Teflon FEP (tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer) films, before evaporation of Al electrodes is studied. It is shown that the main effect is to turn this electrode to a hole injecting one above nearly 80°C, in such a way that negatively charged samples are discharged under these conditions. Currents measured in samples coated also with a second electrode on the non bombarded surface, shown to be space charge limited with a field dependent hole mobility. Nous allons etudier l'effect de bombardement ionique (glow discharge) sur la surface d'un filme de Teflon FEP, avant l'evaporation de Al électrodes. Nous allons montrér que l'effect principal est celui qui fait l'électrode devenir un contact injecteur de trous au-dessus de 80°C, a la façon que les échantillons chargés negativement sont dechargés sous ces conditions. Il y a evidence que les courants mesurés dans les échantillons avec un deuxième électrode évaporée sur la surface non bombardée sont limités par charge d'espace avec la mobilité des trous dépendant du champ électrique.
Referência(s)