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Dépôt chimique en phase vapeur à basse température de revêtements dans le système V-C-N à partir de bis(arene)vanadium

1998; International Information and Engineering Technology Association; Volume: 23; Issue: 5-6 Linguagem: Francês

10.1016/s0151-9107(99)80017-8

1958-5934

S. Abisset, F. Maury, Luc Pelletier, José M. Carretas, A PIRESDEMATOS,

Diamond and Carbon-based Materials Research

Vanadium carbide coatings V8C7 have been deposited on steel substrates by MOCVD using bis(arene)vanadiums as precursors at temperatures lower than 550 °C. Addition of C6Cl6 in the gas phase allows to reduce the carbon content of the films to 13 at. %. These metal coatings exhibit the features of a metastable carbon-rich solid solution. Carbonitride V(C,N) and nitride δ-VN layers with only 5 at. % carbon have been deposited in the presence of NH3. These reactive gas phases allow to grow almost all the phases of the V-C-N ternary diagram. Des revêtements de carbure de vanadium V8C7 ont été déposés sur acier par MOCVD à partir de bis(arène)vanadiums à des températures inférieures à 550 °C. L'addition de C6Cl6 dans la phase gazeuse permet de réduire la teneur en carbone des films jusqu'à 13 % at. Ces revêtements métalliques ont les caractéristiques d'une solution solide métastable très riche en carbone. Des couches de carbonitrures V(C,N) et nitrure de vanadium δ-VN presque exemptes de carbone (≤ 5 % at.) ont été élaborées en présence de NH3. Ces mélanges de réactifs permettent de déposer à basse température presque toutes les phases du diagramme ternaire V-C-N.