Artigo Revisado por pares

Characterisation of TiO2 deposited by photo-induced chemical vapour deposition

2002; Elsevier BV; Volume: 186; Issue: 1-4 Linguagem: Inglês

10.1016/s0169-4332(01)00600-6

ISSN

1873-5584

Autores

Never Kaliwoh, Junying Zhang, Ian W. Boyd,

Tópico(s)

Surface Modification and Superhydrophobicity

Referência(s)
Altmetric
PlumX