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Fowler-Nordheim tunneling in MIM structures with ultra-thin Al2O3 films

1970; Wiley; Volume: 1; Issue: 1 Linguagem: Inglês

10.1002/pssa.19700010122

1521-396X

W. Gericke, Wolfgang Ludwig,

Metal and Thin Film Mechanics

Tunneling transport has been realized in plasma-oxidized ultra-thin film MIM structures on the basis of Al2O3 with thicknesses between 15 and 30 Å. Current–voltage measurements at 77 °K and higher temperatures have been performed up to electric fields of F ≦ 2 × 107 V/cm. A quantitative description of the results is given on the basis of Fowler-Nordheim tunneling. Ein Tunneltransport wurde in plasmaoxidierten, ultradünnen MIM-Schichtstrukturen auf der Basis von Al2O3 mit Schichtdicken zwischen 15 und 30 Å realisiert. Strom-Spannungs-Messungen bei 77 °K und höheren Temperaturen wurden bis zu elektrischen Feldern von F ≦ 2 × 107 V/cm durchgeführt. Eine quantitative Beschreibung der Resultate wird mit dem Fowler-Nordheim-Tunnelmechanismus gegeben.