Anwendung der Vierpoltheorie auf die Probleme der optischen Reflexionsminderung, Reflexionsverstärkung und der Interferenzfilter. (Mit 2 Abbildungen)
1949; Wiley; Volume: 439; Issue: 6 Linguagem: Alemão
10.1002/andp.19494390607
ISSN1521-3889
Autores Tópico(s)Laser Material Processing Techniques
ResumoAbstract Die bei der Behandlung von Leitungsvorgängen der Hochfrequenztechnik und Akustik seit langem bewährte Vierpoltheorie kann auch auf die Lichtausbreitung durch eine Folge planparalleler Schichten Anwendung finden. Für senkrechten Lichteinfall werden die Grundgleichungen angegeben. Als Beispiel wird das Problem der Entspiegelung durch eine Doppelschicht dargestellt.
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