Artigo
Revisado por pares
Optimizing substrate surface and catalyst conditions for high yield chemical vapor deposition grown epitaxially aligned single-walled carbon nanotubes
2011; Elsevier BV; Volume: 49; Issue: 15 Linguagem: Inglês
10.1016/j.carbon.2011.07.020
ISSN1873-3891
AutoresImad Ibrahim, Alicja Bachmatiuk, Felix Börrnert, J. Blüher, Ulrike Wolff, Jamie H. Warner, B. Büchner, Gianaurelio Cuniberti, Mark H. Rümmeli,
Tópico(s)Semiconductor materials and interfaces
Referência(s)