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Artigo
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Chemical Vapor Deposition of SiC from Silacyclobutane and Methylsilane

1992; Cambridge University Press; Volume: 282; Linguagem: Inglês

10.1557/proc-282-451

ISSN

1946-4274

Autores

A. D. Johnson, J. Perrin, J. A. Mucha, D. E. Ibbotson,

Tópico(s)

Copper Interconnects and Reliability

Referência(s)
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