Ellipsometrische Bestimmung der Dicke und Brechzahl dünner Schichten auf Silizium

1969; Wiley; Volume: 4; Issue: 1 Linguagem: Alemão

10.1002/crat.19690040119

ISSN

0023-4753

Autores

Max Frenzel,

Tópico(s)

Surface Roughness and Optical Measurements

Resumo

Abstract Es wird auf die allgemeinen Grundlagen der Ellipsometrie und Fragen der Meßtechnik eingegangen. Zur Bestimmung der Dicke und Brechzahl von dünnen Schichten auf Silizium wird ein Polarisationsspektrometer (Ellipsometer) mit Halbschattenanordnung verwendet. Untersucht werden die bei der Siliziumplanartechnik auftretenden Oxid‐, Silikat‐ und Lackschichten. Die Auswertung erfolgt mit Hilfe der ARCHERS chen Lösung der Ellipsometergleichung für dünne Schichten auf Silizium.

Referência(s)
Altmetric
PlumX