Ellipsometrische Bestimmung der Dicke und Brechzahl dünner Schichten auf Silizium
1969; Wiley; Volume: 4; Issue: 1 Linguagem: Alemão
10.1002/crat.19690040119
ISSN0023-4753
Autores Tópico(s)Surface Roughness and Optical Measurements
ResumoAbstract Es wird auf die allgemeinen Grundlagen der Ellipsometrie und Fragen der Meßtechnik eingegangen. Zur Bestimmung der Dicke und Brechzahl von dünnen Schichten auf Silizium wird ein Polarisationsspektrometer (Ellipsometer) mit Halbschattenanordnung verwendet. Untersucht werden die bei der Siliziumplanartechnik auftretenden Oxid‐, Silikat‐ und Lackschichten. Die Auswertung erfolgt mit Hilfe der ARCHERS chen Lösung der Ellipsometergleichung für dünne Schichten auf Silizium.
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