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Artigo Revisado por pares
BIBTEX RIS

Fabrication of multilevel silicon structures by anisotropic deep silicon etching

2003; Elsevier BV; Volume: 67-68; Linguagem: Inglês

10.1016/s0167-9317(03)00097-2

ISSN

1873-5568

Autores

Robert Huber, J. R. Conrad, Lothar Schmitt, Karl Hecker, J. Scheurer, Marc H. Weber,

Tópico(s)

Nanowire Synthesis and Applications

Referência(s)
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Microelectronic Engineering
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