Portal de Periódicos da CAPES

Influência da Pressão de Vapor na Temperatura Eletrônica de um Plasma de Benzeno, na Estrutura Molecular, Morfologia e na Taxa de Deposição do Polímero Formado

2015; Volume: 10; Issue: 10 Linguagem: Português

2178-6895

Ricardo Del Sant,

Chemistry Education and Research

Vapor de benzeno foi introduzido em um reator de plasma, sendo excitado por tensao continua de 1000 V durante 60 minutos, sob pressao de 0,2 a 0,8 mbar, ate ser convertido em polimero depositado em substrato de vidro ou silicio, atraves do processo de polimerizacao a plasma sob regime de descarga DC. A analise dos materiais coletados permitiu estabelecer, em funcao da pressao do vapor de benzeno, uma estimativa de sua estrutura molecular, destacando-se a presenca de radicais OH, CH3 e CH2, bem como da densidade de ligacoes CH. Ate 0,4 mbar a expressao da morfologia revelou a forma de filme fino continuo, taxa de deposicao polimerica crescente ate 160 A/min e aumento da temperatura eletronica de 2,5 ate 4,5 eV. Entre 0,4 e 0,8 mbar a morfologia foi de filme continuo misturado com po polimerico, taxa de deposicao decrescente ate 40 A/min, enquanto a temperatura eletronica diminuiu ate 2,5 eV.