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OTIMIZAÇÃO DO PROCESSO DE LIMPEZA DO SUBSTRATO

2010; Volume: 6; Linguagem: Português

10.17563/rbav.v6i1-2.717

1983-4047

N. G. Dhere, R. M. P. Alves,

Geography and Environmental Studies

A limpeza de substratos e um dos amis importantes fatores na deposicao de filmes finos. O problema se torna muito mais complexo quando se trata de substratos de vidro, ou cerâmica que tiveram um manuseio pouco cuidadoso fora do laboratorio. O trabalho descreve as etapas de um processo eficaz, simples e barato que tambem evita o uso de insumos importados. O processo otimizado utiliza desengorduramento com eter de petroleo, mergulho em solucao de detergente neutro, agitacao ultrassonica em solucao dedetergente a 60-70°C, mergulho em acido cromico e fervura em agua oxigenada, destilada edeionizada. O trabalho tambem demostra uma maneira simples e efiucaz de verificar o grau de limpeza alem dos testes de uso. Nos testes de limpeza, alem de observar-se as figuras de secagem, testou-se oespalhamento de gotas de agua, para comparar as diversas variacoes feitasem torno de diferentes processos