Artigo
The Effect of Si ON TiAl3 Formation EV Ti/Al Alloy Bilayers
1994; Cambridge University Press; Volume: 355; Linguagem: Inglês
10.1557/proc-355-631
ISSN1946-4274
AutoresPaul R. Besser, John E. Sanchez, Roger Alvis,
Tópico(s)Semiconductor materials and interfaces
Referência(s)