Artigo
Defect Evolution in Ion Implanted Si: from Point to Extended Defects
1997; Cambridge University Press; Volume: 504; Linguagem: Inglês
10.1557/proc-504-3
ISSN1946-4274
AutoresSebania Libertino, J. L. Benton, S. Coffa, Dave J. Eaglesham,
Tópico(s)Integrated Circuits and Semiconductor Failure Analysis
Referência(s)