Portal de Periódicos da CAPES

"MAGNETRON PUTTERING"(CONSTRUÇÃO E APLICAÇÃO)

1987; Volume: 6; Linguagem: Português

10.17563/rbav.v6i1-2.687

1983-4047

Sebastião Eleuterio Filho, Eduardo Farah, S. Bilac,

Plasma Diagnostics and Applications

Construimos um sistema de vacuo para a deposicao de filme pela tecnica “magnetron sputtering” Foraa projetados e construidos eletrodos de varias configuracoes com imas permanentes para o confinamento de plasma. As geometrias empreqadas foram planares (circulares e retangular).Os catodos foram caracterizados pela curva I—V em funcao da pressao de gas (Argonio). O “magnetron” retangular foi o que apresentou melhores resultados, se comparados com a atuaL bibliografia do assunto.