Produção Nacional
Desenvolvimento e avaliação de uma fonte DC de alta tensão para utilização em sistema de deposição de filmes finos por pulverização catódica
2016; UNIVERSIDADE FEDERAL DO RIO DE JANEIRO; Volume: 21; Issue: 2 Linguagem: Português
10.1590/s1517-707620160002.0046
ISSN1517-7076
AutoresLuís Gustavo Baptista Machuno, Anderson Barbosa Lima, Rafael Rocha Buso, Rubens Miguel Favarato Abdanur, Elidiane Cipriano Rangel, Rogério Valentim Gelamo,
Tópico(s)Electrohydrodynamics and Fluid Dynamics
ResumoRESUMO O trabalho em questão está relacionado ao projeto e construção de uma fonte de alta tensão em corrente contínua utilizando materiais e dispositivos adquiridos no comércio local visando sua aplicação no processo de pulverização catódica. Essa técnica permite a deposição de filmes finos de metais, óxidos e nitretos sobre substratos sólidos. Como teste de funcionamento e aplicação da fonte DC, com a mesma instalada em canhão de pulverização em alto vácuo, filmes finos de diferentes espessuras de cobre, aço inoxidável 304 e tungstênio foram depositados e estudados. Análise de espessura, morfologia, e resistência elétrica e resistividade foram conduzidas. Filmes com resistividade elétrica dependente das espessuras foram obtidos. A fonte DC se mostrou confiável em operação e permite a deposição de uma infinidade de materiais nas mais diferentes espessuras sobre vários tipos de substratos.
Referência(s)