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Artigo Produção Nacional
BIBTEX RIS

INFLUÊNCIA DA POTÊNCIA NA COMPOSIÇÃO QUÍMICA DE FILMES DEPOSITADOS A PLASMA A PARTIR DA MISTURA DE C 2 H 2 /ARGÔNIO

2010; Volume: 28; Linguagem: Português

10.17563/rbav.v28i1-2.499

ISSN

1983-4047

Autores

Nazir Monteiro dos Santos Marins, R. Mota, P.A.P. Nascente, Roberto Yzumi Honda, Nilson Cristino da Cruz, M. E. Kayama, Konstantin George Kostov, M. A. Algatti, Elidiane Cipriano Rangel,

Tópico(s)

Plasma Diagnostics and Applications

Resumo

Os filmes de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) possuem propriedades interessantes para aplicacoes tecnologicas, tais como alta dureza, resistencia ao desgaste, baixo coefi-ciente de atrito e biocompatibilidade. Neste trabalho, os filmes foram depositados a plasma por radiofrequencia a partir de uma mistura de acetileno (C 2 H 2 ) e argonio (Ar), buscando investigar a influencia da potencia (P) na composicao quimica de filmes depositados atraves do processo PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). Os parâmetros de deposicao foram: radiofrequencia de 13,56 MHz, potencia variando de 5 a 125 W e pressao de 9,5 Pa. A estrutura molecular dos filmes foi investigada por espectroscopia Raman e espectroscopia de fotoeletrons excitados por raios X (XPS).

Referência(s)